熱処理成膜装置では、高温下でも潤滑可能な、特殊仕様のベアリングが採用されています。

露光装置用ベアリングは強磁場の環境下で使用されるため、非磁性材料であるセラミックスを採用したベアリングが使用されています。

エッチング装置用ベアリングは、エッチング液にさらされた状態で使用するため、腐食に強いセラミックスを採用したタイプや、耐食性に優れたステンレス材が採用されています。

イオン注入装置のチャンバー内では、真空中で潤滑し、摩耗等により不純物を発生させないクリーンなベアリングが採用されています。

スパッタリング装置の高温・真空部には高温クリーンプロベアリングが採用されています。

CMP装置用ベアリングは、研削剤にさらされる環境で使用するため、腐食に強いセラミックスを採用したタイプのベアリングが採用されています。

検査装置用ベアリングは、検査に影響を与えないよう、非磁性のベアリングが採用されています。

ウェーハ搬送装置では低発じん性や長寿命が要求されます。このような用途に、薄肉型のKシリーズ総玉形組合せセラミックベアリングが採用されています。

偏光板フィルム製造ラインでは、酸・アルカリ・染料・純水といった各種溶液が使われます。このような腐食環境下には、コロガードプロベアリング、耐食組合せセラミックベアリングが採用されています。